全自动氦气纯化设备/纯化系统

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全自动氦气纯化设备/纯化系统

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全自动氦气纯化器/氦气纯化系统:氦气净化系统是使用氦气流量较大场景下的氦气净化机,根据需求增加了氦气瞬时监测,氦气纯度在线监测,其中氦气微量氧和氦气露点监测是比较常用的氦气纯度监测设备。本公司生产的全自动氦气净化系统吸取手动和半自动氦气净化机经验基础上研究开发的一款新产品,也是国内同类产品中较早生产并市场化的全自动氦气纯化装置。该氦气净化系统能把普通工业氦气(99.9%)或(99.99%)净化、纯化后得到高纯氦气(99.999%)或超纯氦气(99.9999%)。高纯氦气广泛应用于电子、冶金、机械、高纯材料和仪器分析等产业部门。。

一、关于氦气纯化的方法:

**种

 直接脱氧法:就是使用活性金属、催化剂与氩气中的氧气进行反应,消化掉氩气中的氧气,从而达到脱氧的目的,经过分子筛吸收掉氩气中的水份,使氩气的含水量小于1ppm。

第二种

 是采用吸气剂:在一定温度下,吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后,氦气的纯度可达到6个9,这种工艺生产出来的高纯气体适用于各种工艺设备和仪器。

 **种方法设备投资小,第二种方法设备纯化纯度高但投资相对较大。

argon gas purification system

二、氦气净化系统的技术参数:

1、处理气量:    1~3000 Nm3/h(根据用户需要订做)

2、原料气要求: 液氦或者较好的管道氦均可使用

3、工作压力0.1-1.6MPa

4、氦气净化系统净化效能:

输入氦气纯度≥99.99%

输出气体指标≥99.9995%,杂质含量如下:

O 2≤0.5ppm;

H2O≤0.5ppm

CO+CO2≤0.1ppm;

尘埃粒子数(≥0.3um)3~5个/升


输出气体指标≥99.9999%,杂质含量如下:

H2O≤0.2ppm

O2≤0.2ppm

N2≤0.2ppm

H2≤0.2ppm

CO2≤0.1ppm

CO≤0.1ppm

CH4≤0.1ppm

尘埃粒子数(≥0.3um)3~5个/升

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三、氦气净化系统特点:

1、净化剂特点有吸附深度好,吸收杂质气体量大的特点,纯度可达99.999%或99.9999%以上;

2、净化器采用特殊结构和装料方法,流速设计合理,气流分布均匀;

3、全BA级或EP级不锈钢抛光管。采用进口/国产优质阀门。杜绝了气体流经管路的再次污染。

 4、双式结构,开机后一组工作,另一组再生、备用,而且EA系列全自动氩气纯化装置工作和再生都自动进行,故能够连续供气,一台能顶单式的两台使用。

5、本公司生产的EA系列全自动氦气净化系统功能说明:

   A、具有全自动功能,使用操作简单,开、停机只需按两个按钮,不需扭动任何阀门,这些工作都由PLC程序自动进行;克服了手动和半自动机型因人为操作失误引起的气体不纯,因此氩气纯度质量也更加稳定。

   B、控制文本显示器采用优质液晶触摸屏,实时模拟显示工作流程状态和各种参数显示,并随时可以实现各参数的修正,极大的方便工作人员的操作。

   C、可根据用户需要配备在线分析仪,实时在线监测氦气纯度。

四、氦气净化系统的应用领域:

      用于超纯气体分析;高纯气体充装站; 高纯材料生产;半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气、填充气体、真空检漏、气相色谱分析的载气。